真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時間內(nèi)完成全部加工工藝過程，是一種多功能高效鍍膜設(shè)備。

　　為了實際實現(xiàn)狀態(tài)反饋控制規(guī)律，必須采用可直接測量的控制對象輸入與輸出，根據(jù)鍍膜儀建立確定狀態(tài)的動態(tài)系統(tǒng)，稱其為觀測器。由輸出確定控制規(guī)律本身的動態(tài)系統(tǒng)稱為動態(tài)補償器。

　　基于狀態(tài)方程式進行控制系統(tǒng)設(shè)計的主要特點之一是在確定控制規(guī)律后，獨立進行這種狀態(tài)估計器的設(shè)計。也就是說，除了控制對象的構(gòu)造之外，都是利用算法計算求出來的。這樣就構(gòu)成了既包含外部環(huán)境在內(nèi)的控制對象，又能使閉環(huán)穩(wěn)定且能跟蹤目標(biāo)值的系統(tǒng)。但鍍膜儀廠家的設(shè)計人員感到困難的問題是在給出具體設(shè)計指標(biāo)后，究竟利用評價函數(shù)還是利用極點配置的方法問題。

　　為解決這個問題，通常是改變評價函數(shù)，再根據(jù)控制系統(tǒng)特性的變化，尋求出*評價函數(shù)，對此需要反復(fù)進行幾次才行。

　　鍍膜儀的系統(tǒng)控制往往采用階梯狀或塊狀的線性自由系統(tǒng)輸出來表達外干擾和目標(biāo)值的形式。因此，在現(xiàn)代控制理論中，特別是將這種控制系統(tǒng)稱為“伺服系統(tǒng)”。這種伺服系統(tǒng)的設(shè)計建立包含有干擾和目標(biāo)值等控制對象的外部環(huán)境模型，對于與控制對象組合的全系統(tǒng)，尋求狀態(tài)反饋規(guī)律。